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离心铸造_此外正在筹划开发 ALD设备和



  营业收入同比增长37%,扣非净利润大幅增长。2021年实现营收31.08亿元(YoY 36.7%),归母净利润10.11 亿元(YoY 105.5%),离心铸造扣非归母净利润3.24亿元(YoY 1291.1%),毛利率为43.36%,同比提升5.69pct,主因等离子刻蚀设备及MOCVD等核心业务高速稳定成长。非经常性损益项目主要为政府补助(3.48亿元)和所持有金融资产等取得的投资收益等(4.61亿元)。离心铸造期间费用率同比下降4.8pct至26.56%,主因营收显著增长带来的规模效应推动费用率合理下降以及定增募资后利息收入增加。

  21年设备业务毛利率提升4.88pct,刻蚀设备收入增长55%。离心铸造2021 年专用设备营收 25.07 亿元 (YoY 39.39%) , 毛利率 42.20% (YoY +4.88pct) 。刻蚀设备受益于半导体设备市场发展和产品竞争优势,实现收入20.04 亿元(YoY 55.44%),CCP 刻蚀机批量应用于国内外一线客户的集成电路制造生产线,并持续提升市场占有率,在部分客户市场占有率已进入前三位; ICP 刻蚀机在客户端完成验证的应用数量亦在持续增加,全年共生产付运 134 腔,产量同比增长 235%;MOCVD 业务由于下游市场原因以及本年新签署的 Mini LED MOCVD设备规模订单尚未确认收入,实现收入 5.03 亿元(YoY 1.53%),毛利率则大幅增长15.12pct至 33.77%。

  全球半导体制造设备市场规模料创新高, 研发投入强度提升扩展品类。 根据SEMI 数据, 2022 年全球半导体晶圆制造设备投资将达 1030 亿美元 (YoY14%),首次突破 1000 亿美元,国内亦进入晶圆制造扩产周期。2021 年研发投入为 7.28 亿元(YoY 13.8%),占收入比例为 23.4%,研发人员增加 19.9%至 415 人, 在确保等离子体刻蚀设备及 MOCVD 设备等核心业务高速稳定成长之外,在集成电路的薄膜设备领域正在开发 LPCVD设备和 EPI 设备,并已取得了良好进展。此外正在筹划开发 ALD设备和 ALE 设备等关键设备。

  看好在全球半导体晶圆制造设备市场高景气下业绩成长,预计22-24 年营业收入为43.3、56.5、72.6 亿元,归母净利润10.95、12.75、15.80亿元,对应2022年16.43倍PS、65.0倍PE,维持“增持”评级。
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