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离心铸造半导体刻蚀设备龙头中微68801



  今日晚间,半导体刻蚀设备龙头中微688012股吧)定增结果揭晓,大基金二期及中金、高毅等机构入局。

  具体来看,中微本次定增募资总额为82.1亿元,其中大基金二期获配25亿元,中金获配4.06亿元,高毅旗下合计获配5.4亿元。中微本次定增价格为102.29元,相较于今日151.5元的收盘价,折价近32%。

  从本次定增认认购金额来看,大基金以25亿元的认购金额居于首位,认购金额占了本次定增发行金额的30%。事实上,本次大笔投资中微与大基金二期投资方向较为一致。

  在大基金一期的投资项目中,芯片制造占67%、设计占17%、封测占10%,设备和材料投资仅占6%;并且主要投资行业龙头大。而大基金二期重点投资的将是半导体装备及材料领域,比如光刻机、蚀刻机以及大硅片、离心铸造光刻胶等。离心铸造

  值得注意的是,在入参与中微定增之前,大基金二期已经对多个项目进行了投资,主要包括深科技000021股吧)的佩顿存储封测、长鑫存储的DRAM、紫光展锐、中芯国际的北京合资线项目和中芯南方项目。

  具体到中微,资料显示是刻蚀+MOCVD龙头,技术驱动行业。CCP刻蚀设备已批量应用于国内外一线nm集成电路制造产线DNAND产线nm及以下逻辑电路产线的重复订单;ICP刻蚀设备逐步成熟,已成功进入海内外十余家客户的晶圆产线。MOCVD设备持续在行业客户生产线上大规模投入量产,保持在行业内的地位。

  根据2021年6月SEMI《全球晶圆预测报告》,未来几年全球将新增29座晶圆,设备支出预计将超过1亿美元,其中中国大陆及中国台湾分别有8座晶圆新建计划,位列全球。此外台积电、中芯国际等代工龙头2021年资本开支显著提升。

  国盛证券研报指出,半导体设备投资快速放量,刻蚀设备作为晶圆设备投资中占比的装备,产品种类多,市场被海外龙头垄断。以长江存储、华虹无锡、华力集成的招投标数据为例,三家晶圆的刻蚀环节上国产化率(以机台数量计算)平均达到20~30%,国产化进程加速。

  中微的刻蚀设备种类较为丰富,三家晶圆刻蚀环节国产设备中,中微刻蚀设备占比较高。此外,有望看到按技术路径推出下一代用于更先进制程关键步骤的ICP及CCP刻蚀设备,刻蚀设备产品线不断完善,盈利水平及核心竞争力进一步提升。

  业绩表现方面,今年一季度中微营业收入实现6.03亿元,离心铸造同比增长46.24%;净利润1.38亿元,同比增长425.36%,这一增速超过去年全年水平:2020年净利润同比增长1.6倍至近5亿元。

  对于业绩增长的原因,中微认为主要系受益于市场行情及产品的竞争优势,刻蚀设备和MOCVD设备收入分别增长,另外,毛利率提升至40.92%,相应毛利同比增加约1亿元。
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