离心铸造然后并没有得到中和

　　靶材中毒是由于在溅射过程中带有正电的离子聚集在靶表面。然后并没有得到中和，便出现靶表面负偏压逐步下降。这所谓的靶中毒现象。对于影响靶材中毒的因素是什么呢？1.影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。采用中频电源或射频电源打一个到两个小时，可以恢复。3.将靶材拆出来，用砂纸抛光，也可解决。控制镀膜模式的变换：在镀膜前，采集靶中毒的迟滞效应曲线，使进气流量控制在产生靶中毒的前沿，确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。防止靶材中毒，首先要保证真空室不漏。清理内部，除去挥发成分等。

　　中国集成电路材料现状如何？靶材是薄膜制的关键原料之一，半导体在靶材应用中约占10%。2016年靶材市场增速达到20%，2017年-2019年仍将保持复合增速13%，到2018年全球靶材市场空间达到983亿元，超越全球金属钴和碳酸锂合计941亿元的市场，未来潜力巨大。高纯金和高纯银因具有接触电阻小，热阻低，热效应力小和可靠性高等优点，其靶材材料广泛应用于背面金属化系统、汽车工业、高温材料和生物医学中。“半导体器件用镍铂靶材的制关键技术及产业化”取得重大突破，建立了生产线并取得良好经济效益，镍铂靶材替代了进口产品并远销海外。国内靶材等半导体材料的领袖企业，实现了高纯金属、靶材一体化运营，在高纯金属、铜靶材、钴靶材等产品上实现了技术突破。并成功进入到国外集成电路企业的供应链。离心铸造

　　薄膜太阳能电池比传统的晶体硅太阳能电池具有更加广阔的市场空间。全球光伏累计装机容量不断增长,给太阳能电池用溅射靶材市场带来了较大的成长空间。高纯溅射靶材是典型的技术密集型产业,产品技术含量高,研发生产设专用性强。全球靶材市场主要由日美所掌控,市场集中度较高。日矿金属是全球的靶材供应商，靶材销售额约占全球市场的30%，离心铸造离心铸造霍尼韦尔在并购JohnsonMattey、整合高纯铝、钛等原材料生产后，占到全球市约20%的份额，此外，东曹和普莱克斯分别占20%和10%。对靶材用量较大的行业主要有半导体集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录介质、光学器件等（这些就是按应用分类的）。其中，高纯度溅射靶材主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域。

　　氧化铟锡作为一种n型半导体材料，光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性，太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极上广泛应用。目前全球薄膜电池量保持10％以上的增速，另一方面，国内对于HIT电池的投资热情高涨，HIT也大概率会保持高速增长，产能有望从目前的2GW增长至2024年的100GW以上。薄膜太阳能电池的制造需要溅射靶材。薄膜太阳能电池相较于晶体硅太阳能电池有着低成本的优点。同时，晶体硅电池的转化效率已经接近其理论值，而薄膜太阳能电池的转化效率在逐年提高。因此，薄膜太阳能电池的市场规模有望随着应用领域拓展提升，增长率有望高于晶体硅市场规模增长率和光伏太阳能产业市场规模增长率，薄膜电池市占率也会逐步提高。
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